什么是微透鏡和微透鏡陣列？

透鏡是一種人們非常熟悉的光學元件，它屬于被動光學元件，在光學系統中用來會聚、發散光輻射。通常的透鏡體積比較大，人眼能看得到，遵循折射定律，用幾何光學的知識就能很好地研究它們的光學性質。

發展歷程

相同的透鏡按一定的周期排列在一個平面上便構成了透鏡陣列，由普通的透鏡組成的透鏡陣列的光學性質就是單個透鏡功能的合成。

然而，隨著科學技術的進步，當前的儀器設備已朝著光、機、電集成的趨勢發展趨勢。利用傳統方法制造出來的光學元件不僅制造工藝復雜，而且制造出來的光學元件尺寸大、重量大，已不能滿足當今科技發展的需要。人們已經能夠制作出直徑非常小的透鏡與透鏡陣列，這種透鏡與透鏡陣列通常是不能被人眼識別的，只有用顯微鏡、掃描電鏡、原子力顯微鏡等設備才能觀察到，這就是微透鏡和微透鏡陣列。

微光學技術所制造出的微透鏡與微透鏡陣列以其體積小、重量輕、便于集成化、陣列化等優點，已成為新的科研發展方向。隨著光學元件小型化的發展趨勢，為減小透鏡與透鏡陣列的尺寸而開發了許多新技術，現在已經能夠制作出直徑為毫米、微米甚至納米量級的微透鏡與微透鏡陣。

在上個世紀80年代，一種新型的微小光學陣列器件自聚焦平面微透鏡陣列發展起來，它采用當時先進的光刻工藝，制作出排列整齊，結構均勻的微透鏡陣列，而且微透鏡陣列的表面為平面，易于與其它平面元件耦合連接，并且具有較好的聚光、準直、分路、成像、波分復用、開關、隔離等三維功能。另外，由于單個透鏡的直徑小，透鏡密度高，可實現信息的大容量，多通道并行處理。因此，在光傳感、光計算、光纖通信及其它光電子器件中獲得了重要的應用。

1992年，日本Sony公司報道了將微透鏡陣列與CCD單片集成制作出高靈敏度的CCD器件。微透鏡陣列與CCD集成能夠提高CCD的填充系數進而改善CCD的靈敏度和信噪比。CCD由許多光敏元組成，光敏元將獲得的光信號轉變成電信號，然后轉移出去。由于移位寄存器和轉移門的存在，光敏元之間存在明顯的空隙，落在CCD上的信號光約有2/3并不能被光敏元拾取。CCD的填充系數只有20.30%，導致了CCD較低的光敏性。這樣入射到CCD其它區域的信號光就會被浪費，信號光的利用率很低。因此微透鏡陣列的主要作用是使原本落入介電層上的光子由于微透鏡的作用使之偏折落入光敏區，提高CCD的填充系數。通過在CCD上使用微透鏡陣列，使光聚焦在CCD光敏元上，能夠使CCD得靈敏度得到大幅度提高，而CCD的量子效率在可見光譜范圍內平均提高兩倍。

1994年菲利普研發中心成功制作出二維大面積圖像傳感微透鏡陣列。微透鏡的直徑為190um，間隔200um，微透鏡的焦距從200—450um。微透鏡陣列提高了傳感器件的響應速度，而對圖像分辨率沒有影響。

1997年，美國麻省理工學院(MIT)林肯實驗室研究人員采用質量轉移法，成功制作出折射非球形微透鏡陣列，用于錐形諧振腔激光器的光束準直，使衍射受限光束發散角僅為0.43，并實現了與單模光纖的耦合。

2002年，Osaka大學研究人員利用微透鏡陣列與二次諧波顯微鏡(second harmonic generation microscopy)集成，提出了多焦點掃描技術，與傳統的單焦點掃描方法相比，此技術使二次諧波生成的探測效率和圖像采集率獲得了數十倍的提高。

2005年，韓國研究人員報道稱將微透鏡陣列用于超大尺寸的三維成像顯示，微透鏡陣列能夠加大顯示器的視場角，同時顯示的圖像顯非常清晰而且沒有畸變。

2006年，美國加利福尼亞州的斯坦福大學的研究人員成功地利用微透鏡陣列代替數碼相機中的單一透鏡成像，大大增加了相機的聚焦深度和視場角。裝有微透鏡陣列的相機不但能夠使遠處和近處的像清晰，連背景也十分清楚，而一般的相機只能獲得近處或遠處的像。

2007年韓國LG公司研究人員報道了使用高填充因子微透鏡陣列增強OLED的光輸出效率。他們利用溝道成型和高分子敷形圖層氣相沉積的微機械制作工藝在OLED器件表面制作出來高填充因子的微透鏡陣列，將OLED的輸出效率提高了48%。

在國內，研究人員對微透鏡陣列理論及制作工藝也進行了深入的研究，使得其得到了廣泛的應用。如成都光電所將其成功地用于波前測量、激光光束診斷、激光光束整形和光學元件質量評價等實際系統中；浙江大學對其在密集多載波分復用器中的應用也作了深入的研究；南開大學光學所衍射微光學試驗室對微透鏡的制作工藝也進行了深入的研究。